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可拉伸復合單層電極用于低壓電介質執行器——摘要、介紹
來源:上海謂載 瀏覽 971 次 發布時間:2020-12-17
摘要
在這項工作中,使用Langmuir-Schaefer(LS)方法開發了多壁碳納米管/聚烷基噻吩(MWCNT/PT)復合材料作為介電彈性體致動器(DEA)的電極。這些復合材料在空氣-水界面形成穩定的單分子膜,然后將其轉移到聚二甲基硅氧烷(PDMS)彈性體膜上。單層電極在100%單軸應變下保持導電。我們提出了一種利用LS轉移電極制備DEA的方法。通過在轉移步驟中使用掩膜,可以在1.4μm厚的預拉伸PDMS膜的兩側以超過200μm的分辨率對電極進行圖案化,以產生超低電壓DEA。DEA在100V的驅動電壓下產生4.0%的線性應變,比典型的DEA工作電壓低一個數量級。
1.介紹
當人們希望將主動運動或變形控制集成到柔順或可伸縮對象中時,需要軟執行器。因此,軟執行器被廣泛應用于系統必須既軟又能主動改變形狀的領域,如軟機器人[1,2]、可調諧光學[3,4]和柔順夾持器[5,6]。介電彈性體致動器(DEA)由于其高能量密度[7]、大變形應變[8]和快速響應[3],是一種很有前途的軟致動器技術。DEA由介電彈性體(DE)(通常為硅樹脂[9]或丙烯酸樹脂[7,10])組成,夾在兩個兼容電極之間。當在這些電極之間施加電位差時,DE在厚度上受到擠壓,在平面上膨脹[7]。對于小于約10%的變形(取決于材料和預拉伸),平面內應變Sx由[11]給出:
式中,ε是DE膜的介電常數,Ym是DE膜的楊氏模量,E是兩個電極之間的電場,V是施加的電壓,tm是DE膜的厚度。
通常假設DEA使用的電極不會對裝置的剛度產生影響。對于許多在厚度為幾十μm的丙烯酸薄膜上使用碳脂電極制造的DEA而言,情況就是如此。只有在遵守以下不等式時,才能忽略電極剛度[12]:
式中,Ye是電極的楊氏模量,te是電極厚度,Ym是DE的楊氏模量,tm是DE膜厚度。
如果不滿足式(2)(例如,對于非常薄的彈性體膜或剛性金屬電極),則必須修正式(1),以考慮電極的硬化影響。這突出了電極機械性能對DEAs性能的作用。
DEA的最大應變受到DE擊穿場的限制(更準確地說,DEA的失效模式是機電不穩定性[13],但擊穿場是小應變致動器配置的關鍵限制因素)。對于厚度為10μm至100μm的典型彈性體,以及在100–150V/μm的典型彈性體擊穿場附近工作,DEA需要1kV至15kV以達到最大應變。由于高壓電子設備的成本、尺寸和效率,這些高工作電壓限制了DEA的一些可能應用。因此,為了降低DEA的工作電壓,同時保持相同的驅動性能,進行了大量的研究。從式(1)中可以看出,為了在降低電壓的同時保持給定的驅動應變,ε必須增加[9,14],或者Ym和tm必須減少[15,16]。應變電壓平方比(Sx/V2)指標已用于比較不同工作電壓下DEA的性能[16]。對于厚度為3μm的DEA,降低膜厚度tm導致先前報告的最高Sx/V2值為125%/kV2,在245V下產生7.5%的線性應變[16]。考慮到電極通常比彈性體更硬(對于DEAs中使用的幾乎所有材料,Ye>Ym),當膜變薄時,電極厚度te或電極剛度Ye也必須進一步減小,以保持驅動應變,如式(2)所示。
參考文獻[12,17]綜述了用于DEA的可拉伸電極的技術,包括金屬離子注入[18],SWCNT層的轉移[19]。,離子凝膠和水凝膠[20,21],或通過移印[3,16]、噴涂[10]、刀片鑄造[22]或絲網印刷[23]涂覆的摻雜有炭黑的硅酮或硅油。這些電極制造方法不適用于膜厚度為1μm的DEA,這將允許DEA在100V下工作,因為相對于去膜的電極厚度而言,電極厚度不可忽略,或者對于離子注入方法,對于50 nm厚的電極,電極剛度太高。通過開發具有低Ye*te值的納米厚度和可拉伸電極,低壓DEA技術可以取得重大突破。這將允許使用1μm厚的膜制造DEA,在100V下應變超過10%。迄今為止,在100V電壓下,使DEA具有超過1%線性驅動應變的電極尚未報道[16,19,22]。
朗繆爾技術是一種有吸引力的替代常用電極制造方法,因為它可以形成納米厚的薄膜。它是將分子單分子膜從空氣-水界面轉移到固體基底的有力工具。通過首先在空氣-水界面擴散然后壓縮兩親性分子,可以制備稱為Langmuir單分子膜的單分子膜,其在數百cm2的面積上高度有序[24]。除了生產單分子厚度的薄膜外,這種技術還具有控制單分子層中分子密度的優點。然后,可以使用垂直Langmuir-Blodgett(LB)或水平Langmuir-Schaefer(LS)方法將這些Langmuir單分子膜轉移到選定的基質上[25]。已經使用Langmuir技術制造了一些器件,包括分子傳感器[26]、光電化學器件[27]、有機半導體器件[28]和場效應晶體管[29]。基于Langmuir技術制造的可拉伸單層導體的DEA電極尚未見報道。
在這篇文章中,Langmuir技術用于制造DEA的可拉伸單層電極(圖1)。疏水性聚烷基噻吩(PT)和親水性多壁碳納米管(MWCNT)在溶劑中混合以形成穩定的兩親性復合分散體。該分散液可分散在水面上以形成復合電極,其中MWCNT網絡嵌入在PT單層中(圖1a)。鉑作為導電聚合物,應能提高導電性,并在空氣-水界面穩定非功能化親水性MWCNT。研究了兩種具有不同直鏈烷基側鏈的鉑-聚(3-己基噻吩)(P3HT)和聚(3-癸基噻吩)(P3DT)),因為側鏈長度對鉑材料性能有顯著影響。鏈越長(高達12℃),楊氏模量和導電率越小[30]。然后使用LS方法將MWCNT/PT復合單層從空氣-水界面轉移到聚(二甲基硅氧烷)(PDMS)彈性體膜(圖1b)。這種粘附性是由PDMS基質和復合單層中的鉑之間的疏水親和性提供的。將1.4μm厚的預拉伸PDMS膜夾在兩個LS轉移復合電極之間,以形成100V工作DEA(圖1c)。根據DEA應用的形態、電氣和機械性能對電極進行評估。
圖1。使用Langmuir-Schaefer轉移單層電極制作低壓DEA(a)在空氣-水界面形成的單層復合電極:嵌入聚(烷基噻吩)(PT)單層內的互連MWCNT網絡。(b)Langmuir-Schaefer(LS)將復合單分子膜從空氣-水界面轉移到PDMS介電膜上,制成DEA的一個電極。(c)DEA由一層1.4μm厚的硅酮膜組成,硅酮膜夾在兩個亞100 nm厚的復合單層電極之間。